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    技術中心 Technology

    常見的蒸發鍍膜技術分析
    發布時間:2014-12-01 瀏覽:4599 次

      一、電阻蒸發鍍:電阻蒸發源用于蒸發低熔點材料,如金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等。電阻蒸發源一般采用鎢、鉬、鉭制作。

      二、電子束蒸發鍍:利用電子束加熱使膜材汽化蒸發后,凝結在基片表面成膜是真空蒸鍍技術中一種重要的加熱方法。

    這種裝置的種類很多。隨著薄膜技術的廣泛應用,不但對膜的種類要求繁多,而且對膜的質量要求更加嚴格。

      電阻蒸發鍍已不能滿足蒸鍍某些金屬和非金屬的需要。電子束熱源能獲得遠比電阻熱源更大的能量密度,數值可達到104-109w/cm2,因此可以將膜材加熱至3000-6000c。

      這就為蒸發難熔金屬和非金屬材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AI2O3等提供了較好的熱源。而且由于被蒸鍍的材料是放在水冷坩堝內,因而可避免容器材料的蒸發及容器材料與膜材之間的反應,這對提高膜的純度是極為重要的。

      另外,熱量可直接加到膜材表面上,因此熱效率高,熱傳導和熱輻射損失少。

      三、電弧加熱蒸發鍍:與電子束加熱方式相類似的一種加熱方式是電弧放電加熱法。它也具有可以避免電阻加熱材料或坩堝材料的污染,加熱溫度較高的特點,特別適用 于熔點高,同時具有一定導電性的難熔金屬、石墨等的蒸發。

      同時,這一方法所用的設備比電子束加熱裝置簡單,因而是一種較為廉價的蒸發裝置。

      四、激光束蒸發鍍:采用高功率密度脈沖激光對材料進行蒸發,用以形成薄膜的方法,一般稱為激光蒸鍍

      五、高頻感應加熱蒸發鍍:利用感應加熱原理把金屬加熱到蒸發溫度。

      將裝有膜層材料的坩堝放在螺旋線圈的中央,在線圈中通以高頻電流,可以使金屬膜層材料產生電流將自身加熱升溫,直至蒸發。

      感應加熱蒸發源的特點:

      1、蒸發速率大

      2、蒸發源溫度均勻穩定,不易產生鋁滴飛濺現象

      3、蒸發源一次裝料,無須送絲機構,溫度控制比較容易,操作簡單

      4、對膜材純度要求略寬些。

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